Pó de silicida de tungstênio Pó Wsi2

O siliceto de tungstênio (WSi2) é um composto inorgânico que é um silicida do tungstênio. É um material cerâmico condutor.

Usado em microeletrônica como material de contato com resistividade 60-80 μΩ cm; Forma-se a 1000 graus. É freqüentemente usado como um shunt para fios de polissilício para aumentar sua condutividade e velocidade de sinal. A camada de silicieto de tungstênio pode ser preparada por deposição de vapor químico, por exemplo, usando monossilano ou diclorossilano com hexafluoreto de tungstênio como gás de origem. O filme depositado não é estequiométrico e precisa de recozimento para se converter em uma forma estequiométrica mais condutora. O silicídio de tungstênio é uma alternativa inicial ao filme de tungstênio. O siliceto de tungstênio também é usado como uma camada de barreira entre o silício e outros metais, como o tungstênio.

O siliceto de tungstênio também tem aplicações em sistemas microeletromecânicos e é usado principalmente como um filme fino para fabricar circuitos em microescala. Para este fim, os filmes de siliceto de tungstênio podem ser gravados com plasma usando, por exemplo, gás trifluoreto de nitrogênio.

Wsi2 tem bom desempenho em revestimentos anti-oxidação. Em particular, semelhante ao disilicida de molibdênio (MoSi2), a alta emissividade do disilicida de tungstênio torna este material atraente para resfriamento radiativo de alta temperatura e afeta a proteção térmica.