Tecnologia de fabricação de carboneto de silício
Forma: forma de caroço/pó
Pó de carboneto de silício para refratário
Descrição
Descrição
O carboneto de silício (SiC) é um material popular no mundo da eletrônica devido às suas propriedades químicas e físicas superiores. É usado na fabricação de componentes eletrônicos como MOSFETs, diodos e módulos de potência.
A fabricação de SiC é um processo complexo que requer conhecimentos especializados e equipamentos específicos. O método mais comum utilizado para a produção de SiC é o processo Acheson, que envolve o aquecimento de uma mistura de coque e areia em um forno eletricamente resistente. A reação resulta na formação de cristais de SiC que são então triturados e classificados de acordo com seu tamanho e qualidade.
Outro método usado para a fabricação de SiC é o processo de deposição química de vapor (CVD). Este método envolve a reação entre gases reativos como o silano (SiH4) e o metano (CH4) em uma câmara de vácuo. A reação produz uma camada de SiC em um substrato como um wafer de silício.
Especificação
| Modelo | Porcentagem do componente | |||
| 60# | Sic | F.C | Fe2O3 | |
| 65# | 60 minutos | 15-20 | 8-12 | 3,5 máx. |
| 70# | 65 minutos | 15-20 | 8-12 | 3,5 máx. |
| 75# | 70 minutos | 15-20 | 8-12 | 3,5 máx. |
| 80# | 75 minutos | 15-20 | 8-12 | 3,5 máx. |
| 85# | 80 minutos | 3-6 | 3,5 máx. | |
| 90# | 85 minutos | 2,5 máx. | 3,5 máx. | |
| 95# | 90 minutos | 1.0máx. | 1,2 máx. | |
| 97# | 95 minutos | 0.6máx | 1,2 máx. | |
Nos últimos anos, a tecnologia de fabricação de SiC avançou com a introdução de novos métodos de crescimento de cristais de SiC, como os processos PVT (transporte físico de vapor) e HTCVD (deposição química térmica de vapor em parede quente). Esses processos permitem a produção de cristais de SiC maiores e mais uniformes, com menos defeitos em comparação com o processo Acheson.
A indústria de fabricação de SiC continua a crescer devido à crescente demanda por dispositivos eletrônicos que exigem alta potência, alta temperatura e desempenho de alta frequência. O uso de componentes de SiC pode atender a essas demandas, reduzindo as perdas de energia, aumentando a eficiência e reduzindo tamanho e peso.
Concluindo, a tecnologia de fabricação de SiC é um componente crucial da indústria eletrônica. Com os avanços nos métodos de crescimento de cristais de SiC, podemos esperar que a produção de componentes de SiC continue a crescer nos próximos anos. Isso resultará em dispositivos eletrônicos mais eficientes, mais adequados para ambientes de alta potência e alta temperatura.
Perguntas frequentes
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